| सामग्री का समर्थन करें | एल्युमिनियम ऑक्साइड (Al2O3) |
|---|---|
| स्थिरता | कठिन परिस्थितियों में उत्कृष्ट स्थिरता |
| सतह क्षेत्र | कुशल उत्प्रेरक गतिविधि के लिए उच्च सतह क्षेत्र |
| उत्प्रेरक प्रकार | समर्थित धातु उत्प्रेरक |
| कण आकार | संकीर्ण कण आकार वितरण |
| चयनात्मकता | 80% |
|---|---|
| कण आकार | 3-4.5 मिमी |
| परिशीलन की मात्रा | 0.85-0.95 Cm3/g |
| सतह क्षेत्र | 150-200 एम2/जी |
| आकार | गोल |
| उद्योग | रसायन उद्योग |
|---|---|
| सामग्री का समर्थन करें | एल्यूमिना |
| सतह क्षेत्र | 150-200 एम2/जी |
| आकार | गोल |
| चयनात्मकता | 80% |
| सक्रिय धातु | पैलेडियम (Pd) |
|---|---|
| कण आकार | संकीर्ण कण आकार वितरण |
| सामग्री का समर्थन करें | एल्युमिनियम ऑक्साइड (Al2O3) |
| गतिविधि | C3 हाइड्रोजनीकरण के लिए उच्च गतिविधि |
| सतह क्षेत्र | कुशल उत्प्रेरक गतिविधि के लिए उच्च सतह क्षेत्र |
| कण आकार | संकीर्ण कण आकार वितरण |
|---|---|
| रोम छिद्र के आकार का | एकसमान छिद्र आकार वितरण |
| सतह क्षेत्र | कुशल उत्प्रेरक गतिविधि के लिए उच्च सतह क्षेत्र |
| आवेदन | C3 हाइड्रोकार्बन का चयनात्मक हाइड्रोजनीकरण |
| स्थिरता | कठिन परिस्थितियों में उत्कृष्ट स्थिरता |
| उत्प्रेरक प्रकार | समर्थित धातु उत्प्रेरक |
|---|---|
| आकार | गोल |
| गतिविधि | C3 हाइड्रोजनीकरण के लिए उच्च गतिविधि |
| स्थिरता | कठिन परिस्थितियों में उत्कृष्ट स्थिरता |
| रोम छिद्र के आकार का | एकसमान छिद्र आकार वितरण |
| परिचालन तापमान | 60-100° सेल्सियस |
|---|---|
| दबाव | 3.5 एमपीए |
| चयनात्मकता | 80% |
| सक्रिय धातु | दुर्ग |
| उद्योग | रसायन उद्योग |
| सतह क्षेत्र | 150-200 एम2/जी |
|---|---|
| उद्योग | रसायन उद्योग |
| दबाव | 3.5 एमपीए |
| चयनात्मकता | 80% |
| आवेदन | C2 का चयनात्मक हाइड्रोजनीकरण |
| सतह क्षेत्र | कुशल उत्प्रेरक गतिविधि के लिए उच्च सतह क्षेत्र |
|---|---|
| रोम छिद्र के आकार का | एकसमान छिद्र आकार वितरण |
| स्थिरता | कठिन परिस्थितियों में उत्कृष्ट स्थिरता |
| कण आकार | संकीर्ण कण आकार वितरण |
| परिचालन तापमान | 30-35° सेल्सियस |
| सामग्री का समर्थन करें | एल्यूमिना |
|---|---|
| सक्रिय धातु | दुर्ग |
| परिचालन तापमान | 60-100° सेल्सियस |
| आकार | गोल |
| कण आकार | 3-4.5 मिमी |
